真空溅射用离子源及控件(清设比选20212467号)采购公告
真空溅射用离子源及控件(****)采购公告
真空溅射用离子源及控件 | 采购项目编号**** | |
****-11-29 14:36:03 | 公告截止时间****-12-02 15:00:00 | |
**** | 付款方式合同签订后付款70%,验收合格后一周付尾款30% | |
本项目不接受咨询 | 联系电话本项目不接受咨询 | |
成交后5个工作日 (如不按时签订合同,采购单位有权取消或变更采购结果) | 交货时间要求签订合同后120个工作日 | |
未公布 | ||
**市****逸夫科技楼 | ||
无 |
采购清单 1
真空溅射用离子源及控件 | 1 | 台 |
¥ |
SVT RF 4.5N离子源及原厂家附件,包括RF离子源、流量计、电磁阀、RF电源、控制器以及手动挡板等,配合兼容腔体的位移系统。具体包括: 1. Model RF 4.5N: High Rate Nitrogen RF Plasma Source PLD:1.1 Surface Treated Induction Coil 1.2 Optical Viewport for Plasma Monitoring 1.3 PBN Plasma Chamber, Shield and Aperture 1.4 Integral Water Cooling 1.5 Up to 550W RF Power 1.6 In-Vacuum length 10.0" (Other Lengths Available) 1.7 4.5" CF Mounting Flange (DN63) 1.8 Mini to VCR gas adapter 1.9 Automatic RF Matching Network 2. Model RF PS-1: RF Generator Cables:1.1 Surface Treated 2.1 Induction Coil 2.2 Optical Viewport for Plasma Monitoring 3. Mass Flow Control Package 3.1 Interface to electronic mass flow controller 3.2 Metal Sealed MFC (10sccm) 3.3 Electronic Shut-Off Valve 4. Model SVTA-RF-RR: RoboRF Controller Package 4.1 Plasma Control Interface 4.2 Software Datalogging and Source Automation (recipes) 4.3 Interlock to Power Supply 4.4 High Voltage Supply for Charge Suppression Optics 4.5 Water Safety Interlock 4.6 Optical Plasma Monitor System 5. Model SVTA-RF-MS: Integral Manual Shutter 6. 线性驱动:离子源位置调整位移台,移动距离50mm |
12个月 |
****
****-11-29 14:36:03
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