TX-深紫外光刻机(DUV)
****2022年11至12月政府采购意向-TX-深紫外光刻机(DUV) 详细情况
2022年11月09日 18:22
TX-深紫外光刻机(DUV) | |
项目所在采购意向: | ****2022年11至12月政府采购意向 |
采购单位: | **** |
采购项目名称: | TX-深紫外光刻机(DUV) |
预算金额: | 4200.000000万元(人民币) |
采购品目: | A032199其他电工电子专用生产设备 |
采购需求概况 : | 购买深紫外光刻机(DUV)一台,深紫外光刻机是半导体芯片制造的核心设备,可支持0.18μm的CMOS工艺节点,广泛应用于半导体光电子芯片、微电子集成电路、MEMS传感器、功率半导体器件的制造加工和纳米技术研究。 主要性能指标: 1.曝光光源为248nm KrF准分子激光器; 2.曝光方式为步进式或更高端; 3.加工晶圆尺寸兼容4/6英寸; 4.镜头缩放比例 ≤5:1; 5.最大曝光场面积 ≥22mm×22mm; 6.极限分辨率 ≤180nm; 7.极限分辨率时焦点深度 ≥0.5μm; 8.对准精度 ≤40nm; 9.步进精度 ≤20nm; |
预计采购时间: | 2022-12 |
备注: |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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