电子束曝光系统(EBL)
****2023年1月政府采购意向-电子束曝光系统(EBL) 详细情况
2022年12月02日 11:49
电子束曝光系统(EBL) | |
项目所在采购意向: | ****2023年1月政府采购意向 |
采购单位: | **** |
采购项目名称: | 电子束曝光系统(EBL) |
预算金额: | 2250.000000万元(人民币) |
采购品目: | A032103电子工业专用生产设备 |
采购需求概况 : | 未来芯片研究与试验测试平台采购电子束曝光系统(EBL)1套。电子束曝光机利用聚焦电子束在光刻胶上直接描画图案,从而实现纳米级图形的转移,设备可应用于纳米器件的微结构、集成光学器件,如光栅,光子晶体等、NEMS结构、复杂精细结构、光刻掩模板,压印模板等。设备采购合同签订后供货时间为24个月,货到采购人制定地点并安装验收完毕(包括供货,安装,调试,试验合格所需时间)。具体事宜由成交供应商按采购人指定地点及时间安排要求执行。 |
预计采购时间: | 2023-01 |
备注: |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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