杭州中欣晶圆半导体股份有限公司半导体大硅片（200mm、300mm）项目
| ****半导体大硅片（200mm、300mm）项目 | 项目代码 ||
| ** | 环评文件类型 报告书 | |
| 版本：2018 | 行业类别（国民经济代码） C3985-电子专用材料制造 | |
| 083-电子元件及电子专用材料制造 | ||
| 污染影响类 | 工程性质 非线性 | |
| ****市钱塘新区东垦路888号 | ||
| **大江****发展局 | 环评审批文号 大江东环评批〔2018〕24号 | |
| 2018-05-14 | ||
| **** | 排污许可批准时间 ||
| 600000 | 项目实际环保投资(万元) 9200 | |
| 浙****公司 | 验收监测(调查)报告编制机构社会信用代码（或组织机构代码） 913********5162022 | |
| **** | 运营单位社会统一信用代码(或组织机构代码) ****0100MA2AX8UL47 | |
| ******公司 | 验收监测单位统一社会信用代码（或组织机构代码） 913********1213916 | |
| 2023-03-15 | 验收监测时工况 无 | |
| 调试结束时间 | ||
| 2024-02-23 | 验收报告公开结束时间 2024-03-22 | |
| 网站 https://gongshi.****.com/h5public-detail?id=380676 | 自验信息提交时间 2024-03-24 | |
表1 水污染治理设施
| 1 | 污水处理站 | 《污水综合排放标准》（GB8978-1996）中的三级标准 | 企业于2020****处理站，配套建设4套污水处理系统，总处理能力4300t/d。为符合项目后续扩产规划，于2021年对现有一期污水处理系统进行扩建。扩建后污水处理能力提升至10800t/d | 监测期间，废水达标排放 | 达标 |
表2 大气污染治理设施
| 1 | 污水处理站废气处理设施 | 污水站排气筒氨、硫化氢最高允许排放速率及硫化氢无组织排放浓度满足《恶臭污染物排放标准》（GB14554-93）中的二级排放标准要求 | 项目废气收集后经一级酸喷淋+一级碱喷淋处理后，通过42m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA014 | 氨有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值 | 项目废气收集后经一级酸喷淋处理后，通过42m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA012 | 氨有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值 | 项目废气收集后经一级酸喷淋处理后，通过42m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA011 | 氯化氢有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值，氟化物有组织排放浓度满足《半导体行业污染物排放标准》（DB31 374-2006）限值要求 | 项目废气收集后经一级碱喷淋处理后，通过42m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA010 | 颗粒物、氯化氢有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值，氟化物有组织排放浓度满足《半导体行业污染物排放标准》（DB31 374-2006）限值要求 | 项目废气收集后经一级硫酸喷淋处理后，通过36m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA009 | 氨有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值 | 项目废气收集后经一级酸喷淋处理后，通过42m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA008 | 氮氧化物有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值，氟化物有组织排放浓度满足《半导体行业污染物排放标准》（DB31 374-2006）限值要求 | 项目废气收集后经四级喷淋（一级碱+一级氧化（硫酸、亚氯酸钠）反应塔+二级还原（硫氢化钠、氢氧化钠）反应塔处理后，通过42m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA007 | 氯化氢有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值，氟化物有组织排放浓度满足《半导体行业污染物排放标准》（DB31 374-2006）限值要求 | 项目废气收集后经一级碱喷淋处理后，通过42m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA006 | 氯化氢有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值，氟化物有组织排放浓度满足《半导体行业污染物排放标准》（DB31 374-2006）限值要求 | 项目废气收集后经一级碱喷淋处理后，通过36m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA005 | 氨有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值 | 项目废气收集后经一级硫酸喷淋处理后，通过36m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA004 | 氯化氢有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值，氟化物有组织排放浓度满足《半导体行业污染物排放标准》（DB31 374-2006）限值要求 | 项目废气收集后经高温除害设备+一级碱喷淋处理后，通过36m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA003 | 颗粒物、氯化氢、有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值，氟化物有组织排放浓度满足《半导体行业污染物排放标准》（DB31 374-2006）限值要求 | 项目废气收集后经一级碱喷淋处理后，通过36m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA002 | 氮氧化物有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值，氟化物有组织排放浓度满足《半导体行业污染物排放标准》（DB31 374-2006）限值要求 | 项目废气收集后经四级喷淋（碱+氧化反应塔+2 级还原反应塔）处理后，通过36m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
| 1 | DA001 | 氨有组织排放浓度满足《电子工业污染物排放标准》（二次征求意见稿）表5大气污染物特别排放限值 | 项目废气收集后经一级硫酸喷淋处理后，通过36m排气筒高空排放 | 监测期间，废气达标排放 | 达标 |
表3 噪声治理设施
| 1 | 隔声、防振措施 | 厂界噪声执行《工业企业厂界环境噪声排放标准》（GB12348-2008）3类标准区标准 | 达标 |
表4 地下水污染治理设施
表5 固废治理设施
| 1 | 是 |
表6 生态保护设施
表7 风险设施
| 1 | 是 |
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