磁控溅射薄膜沉积设备
****2024年8至11月政府采购意向-磁控溅射薄膜沉积设备 详细情况
| 磁控溅射薄膜沉积设备 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年8至11月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 磁控溅射薄膜沉积设备 |
| 预算金额： | 155.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A****0409 磁式分析仪 |
| 采购需求概况 ： | ****拟采购磁控溅射薄膜沉积设备一套，要求：1. 衬底4英寸向下兼容；2. 6个2英寸靶枪；3. 溅射速率0.01nm/s-1nm/s; 4. 本底真空：8E-6 Torr; 5. 温度：室温-800℃；6. 转速0-20RPM； 7. 包含进样室。质保期1年。 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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