一、项目信息
采购人:****
项目名称:****反应离子刻蚀机采购项目
拟采购的货物或服务的说明:****拟购置一台反应离子刻蚀机
拟采购的货物或服务的预算金额:****000.00人民币
采用单一来源采购方式的原因及说明:本项目对超导单光子探测器性能要求达到极限指标,对几个纳米厚度几个毫米长度的纳米线的性能有严苛要求,需要纳米线具有非常高的均匀性和一致性,因此对刻蚀工艺要求苛刻。此外,按照项目研究计划,将进一步研制超导纳米线单光子阵列探测器芯片,随着阵列规模的增加,对大面积纳米线薄膜刻蚀工艺的稳定性、均匀性及重复性要求更加严苛;目前的刻蚀机已经无法满足极限器件制备的要求,有必要采购一台反应离子刻蚀机,用于NbN 等超导材料的刻蚀。机台具体技术指标如下: 1.铝材反应室,内径不小于340 mm,反应室盖子气体驱动自动开关; 2.平行板式电极,电极间距55mm,下电极尺寸不小于240mm,可处理8英寸及8英寸以下的样品; 3.反应室进气方式:上盖喷头(showerhead)进气;四角对称型垂直向下排气,4”口径闸板阀,自动压力控制; 进气和排气为完全对称式设计; 4.样品基座冷却水冷却,设备内冷却水管带防冷凝套管;设备配水冷机; 5.配置13.56 MHz射频(RF)电源,功率不小于300 W;自动匹配,在正常稳定工艺条件下反射功率小于5 W; 6.5路工艺气体:SF6,CF4,CHF3,O2,Ar;配置MFC,控制精度<1%的全量程;所有工艺气体管道采用SUS 316L管道,VCR接头; 7.反应室配置薄膜真空计和全量程真空计,薄膜真空计最大量程不小于266Pa; 8.反应室配置涡轮分子泵(200 L/sec)和干泵(500 L/min),极限真空<3*10-4Pa; 9.设备使用分子泵、干泵、闸板阀、MFC都必须为全球知名品牌; 10.设备占地面积要尽量小,集成气体控制箱,使用触摸屏操作; 11.设备需配置充分的自动检测和报警系统,包括冷却水流量检测、冷却水漏水检测、CDA压力检测等,设备阀门、真空泵、RF等需要防误操作的安全互锁;配EMO按钮; 12.刻蚀8”SiO2样品:刻蚀速度>50 nm/min;片内均匀性≤±5%(除边5mm);
刻蚀超薄超导薄膜是制备超导单光子探测器的关键工艺,经过多次调研和反复对比,目前只有日本Samco公司的反应离子刻蚀机系统可以满足超导纳米线精细刻蚀的要求,刻蚀得到的纳米线边沿陡直,均匀性好,特别适合大面积的NbN超导纳米线的刻蚀,目前其他同类设备均无法实现高质量大面积超导纳米线的精细刻蚀。因此申请采用单一****公司采购一台RIE-10NR刻蚀机系统。
二、拟定供应商信息
名称:日本Samco Inc.
地址:36 Waraya-cho, Takeda, Fushimi-ku, Kyoto 612-8443 Japan
三、公示期限
公示期限:5个工作日(2022年9月13日-2022年9月20日);任何供应商、单位或个人对本采购项目有异议的,可以在公示期内以书面形式向****反映。
四、联系方式
1.采购人:****
联 系 人:赵鑫
联系地址:**市**区望**路5099号
联系电话:0551-****2809
邮箱:zhaoxin@ustc.****.cn
2.采购代理机构:****
联 系 人:刘志凌、张文奇
联系地址:**省**市**大道236号
联系电话:0551-****0264、****0268、152****7650
五、附件
1.专家论证意见