原子层材料制备设备(MOCVD)
****2024年4月政府采购意向-原子层材料制备设备(MOCVD) 详细情况
2024年04月03日 18:29
| 原子层材料制备设备(MOCVD) | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年4月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 原子层材料制备设备(MOCVD) |
| 预算金额： | 850.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A****9900其他电工、电子生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 原子层材料制备设备（MOCVD），通过高精度的材料生成能力，控制反应周期数精确地控制材料的厚度，生长速率不受衬底面积大小、基片内温度分布以及气流形状等的影响，可获得均匀一致的膜层厚度。以金属有机化合物为前躯体，以氢气、氮气或其他惰性气体为反应气体，反应气体将前驱体输送到反应室，在衬底表面前驱体分解并发生化学反应，生成所需的大尺寸均匀二维材料并沉积在衬底上。可以实验二维半导体大尺寸、晶圆级可控生长；多层材料的大面积、均匀可控生长；利用MOCVD工艺相对较高的成膜速率，实现二维半导体的高通量制造。以实际公告为准。 |
| 预计采购时间： | 2024-04 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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