高真空离子溅射\蒸发镀膜系统 (XJD2024041800003) 采购公告
高真空离子溅射\蒸发镀膜系统 (XJD(略)) 采购公告
发布时间:(略)
高真空离(略) | 项目编号XJD(略) | |
(略) | 公告截止日期(略)2:00:00 | |
**交通大学 | 付款方式10(略),见开箱记录后解付90%货款,剩余货款验收(略)。 | |
发布竞价结果(略) | 到货时间要求合同签订后90天内送达 | |
币种 | 美元 | |
**省**市长(略) | ||
无 |
采购清单 1
高真空离子溅射\蒸发镀膜系统 | 1.00 | 批 | 无 |
Safemat(略) Cresssington、德国徕卡 |
CCU-010 HV、Cresssington208 HR和Cresssington208C、Leica EM ACE600 |
1、系统具有磁控离子溅射和热蒸发镀碳两种镀膜方式,可镀制纳米级厚度的金属导电膜和碳导电膜,用 于常规 SEM、 EDS、 EDX、 WDS 等样品镀导电膜,也可用于场发射 SEM、 TEM 碳支持膜等高分辨镀膜。 2、系统为全自动触摸屏操控的镀膜系统,可编程控制镀膜过程,全自动操作。 3、样品台:标配平面样品台,直径不小于60mm、高度可调范围(略)、镀膜腔室:硼硅酸盐玻璃圆筒型腔室2个,腔室内径不小于100mm,带有标尺指示工作距离,外部带有防爆罩,并配备真空安全互锁装置;可整体拆卸,以便实现无死角地清洁;另配6英寸金属腔室1个。 5、真空系统:内置隔膜泵和涡轮分子泵的无油抽真空系统,极限真空度为 10-6mbar量级,配皮拉尼和冷阴极全范围复合真空规。 6、膜厚监测:具有石英晶体膜厚监控装置,标配平面样品台具有双位置设计,晶体探头可插入到样品的中心或边缘位置,显示分辨率<1nm;另配10片晶振片。 7、溅射镀膜系统:溅射镀膜:采用先进磁控离子溅射技术,实现温和溅射;具有靶材主动冷却和靶材温度监测设计。溅射电压最高-900VDC,溅射电流10-100mA可调。 8、溅射靶材:采用 φ54mm 靶材,能适用于各种靶材的溅射(包括但不限于 Au,Pt,ITO,DLC,Ni,Fe,C等靶材),并配有金靶一块。 9、热蒸发镀碳:碳源采用盘卷式设计,自动碳绳供给和收集已用碳绳,节省人工装夹碳绳操作,一次真空下可进行50次以上镀碳运行;可精准控制碳膜厚度,碳膜质量好、可重复性高,可镀制1nm或以下的极薄碳膜,也可在一次真空下镀制100nm或以上的厚碳膜;配盘卷碳绳4个。 10、镀膜终止:采用FTM设置膜厚或设置时间两种镀膜终止方式。 |
1.为保障质量及性能指标运行稳定,参与竞价者必须(略),确保不是翻新组装贴牌、库存旧货资料证明,否则竞价无效。 2.产品到货后需要有专业技术人员进行现场调试指导;承诺提供为期至少1年的免费保修及维护服务,质保期内,使用方需要的易损件及备品免费提供,保修期后,需根据我方要求于一周内进行设备维修; 3.提供培训电子资料及视频;提供设备使用说明,培训2人及以上掌握设备的操作与普通故障的排查。 |
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