| 基本要求：
该设备用于科研型研磨抛光，采用磨头在上，样品在下的形式，可实现Z轴方向的精确定位及施加在样品上的力的反馈可调控，磨头旋转速度反馈可调，且保证与样品之间有良好的面接触，留有电化学接口，带有光窗和反射镜，反应池密封用于监测气体（二氧化碳、一氧化碳、氢气等）。此外，还需满足相关参数的测试需求（下方详细阐述）。
具体参数：
1.转速范围：0-3000rpm（控制精度±1rpm）
2.额定力：0-3000g（控制精度±0.5g）
3.Z轴行程及位移精度：150mm（精度±1um）
4.磨头（及轴）尺寸：直径38mm*13.1mm（轴直径10mm*23mm）
【磨头及轴无需提供，仅作为尺寸参考，反应池需要预留磨头的安装位置】
5.反应池内部容积：100-200cm3（空池容积）
6.反应池承压范围：0.5-200kPa
7.反应池其他要求：
①密封（带进出气口及抽气口），其中，进气口气管需插至反应池底部，抽气口需在反应池顶部；
②耐酸碱（pH=0-14）；
③反应池底部透光，即带有光窗和反射镜（光窗直径需>38mm，反射镜大小应与光窗匹配）；
④预留电化学接口（下方详细阐述）；
⑤可插入样品尺寸（边长50±5mm，厚度范围0.1-5mm）；
8.装置调平：由于每次反应都需拆卸反应池，需保证反复拆卸后依然可自适应调平，调整后，磨头和样品表面平行，确保良好的面接触（即距主轴20mm处，磨头与底部石英光窗表面高度起伏保持在±10μm范围内）
9.电化学接口：
****工作站进行连接，因此需满足电化学三电极体系，反应池应预留工作电极、对电极、参比电极线接口（工作电极与插入样品相连且不与内部溶液接触，对电极和参比电极插入反应池中的溶液），其中，对电极为环状电极，需留有环状电极槽并有固定
备注：电极丝直径0.3mm
10.反射镜指向侧面，侧面需留有光源入射空间，光斑大小与光窗大小近似
11.设备应能够在特定时长内持续稳定运行（要求时长不少于48小时）
备注：需提供设备图纸
测试功能需要：
1.转速、力/载荷、扭矩等力学参数实时监测及数据导出
2.反应池内部压力实时反馈及数据导出
3.运动过程可编程控制，如以正弦波方式控制施加压力大小、可多段控制等
4.代码开源，后期根据具体需求可修改
备注：数据格式（.txt、.jpg/png等） | 
换一批