A****2402真空应用设备

本项目拟采购仪器主要用于厚度为几个纳米的氧化物、氮化物、金属薄膜、高介电膜制备（**AlScN、AlBN、ZnMgO、TiN、HfZrO等）。同时，需要具备不出腔体，连续沉积叠层或顶电极的能力，用于高性能器件制备，具体关键指标如下： 1.装片尺寸：8寸且向下兼容； 2.反应腔体数量：2； 3.腔体种类：Thermal≥1，Plasma≥1； 4.全自动真空机械手； 5.叠层沉积：无需出腔，可实现双腔连续沉积； 6.薄膜种类：满足氧化物，氮化物，金属等薄膜沉积； 7.温度温控：温度范围；50-650℃，温控精度±1℃； 8.其他：等离子功率可调范围大，最大功率3000W，频率2.45 GHz，配置臭氧发生器； 9.厚度不均匀性：氧化物≤2%，氮化物或金属≤5%。