磁控溅射（PVD）
****2024年10月政府采购意向-磁控溅射（PVD） 详细情况
| 磁控溅射（PVD） | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 磁控溅射（PVD） |
| 预算金额： | 720.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A****0300 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 磁控溅射是集成电子束蒸发的物理气相沉积系统，也是一种高真空多靶溅镀系统该系统，适用于多种材料体系薄膜的制备，如实验室中用于在衬底上生长半导体薄膜以及一些金属电极，如Au Al，Ni，Ag等。 本项目根据科研需求计划采购两台磁控溅射设备。 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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