西南大学 - 竞价公告(CM106352024000087)
**** - 竞价公告(****)
发布时间:2024-10-01 13:51:42 截止时间:2024-10-04 13:56:31
申购主题: ********基地设备更新项目-物理学专业实验平台建设
报价要求: 国产含税
发票类型: 增值税专用发票
付款方式: 货到后按照履约保证金支付方式付款
收货地址: **市/市辖区/**区/****
供应商资质: 提供3年的质保年限
备注说明: 各竞标商须知:1.所有货物要求免费送货上门、免费安装调试、原厂包装,竞标商如不能提供免费送货上门和免费安装调试,必须注明,申购用户认可的,方可成交。2.成交金额在5万元以上的,供方应在质量验收合格后,需方支付货款前,成交厂商向需方交纳成交总金额的5%作为质保金。质保金自货物质量验收合格之日起一年内若无遗留问题,需方将其质保金全额无息退还供方。3.开户名称: **** 银行账号: 310********24968877 开户银行: 工行****支行 统一社会信用代码: 121********401733W 银行行号: 102****00474;质保金退还事宜联系电话:****4566;4.如竞标货物为进口的,必须填写品牌、型号、厂家、产地,并在报价说明里面填写报价方式为DDP/DAP等,如不填写报价方式的则默认为DDP报价。5.合同模板请见:http://sysbc.****.cn/s/sbc/sbjjjgl/****1011/****989.html;6.请最后成交供应商必须提供增值税专用发票。
送货时间: 发布竞价结果后90天内送达
安装要求: 免费上门安装(含材料费)
预算: 560000.0人民币
PVD 薄膜沉积系统 | 1.0/套 | 560000.0 | **大华 | MiniLab-60S | [{"key":"1","value":"1、\t溅射沉积室\n沉积室、连接管道和法兰均采用SUS304不锈钢,材料致密放气量小;前开门结构,有观察窗和挡板,磁控靶安装在下底盘,样品台在上顶板,腔室带防污内衬,可拆卸清洗。\n2、真空系统\n真空系统\n★1)极限真空度:优于3×10-5Pa (空载经烘烤除气后)\n2)恢复真空:从大气抽至6×10-4Pa≤40min(充入干燥氮气、短时间暴露大气开始抽气)\n3)真空室漏率:关机12小时真空度≤5Pa。(新设备空载)\n★4)系统真空检漏漏率:小于5.0×10-10Pa﹒m3/s;内外表面电解抛光处理。\n3、样品台\n1)样品台:抽屉式结构可装载最大4英寸基片托(方片尺寸100mm×100mm)可以根据客户样品形状和大小定制样品托。\n2)样品台旋转:转速0~30rpm连续可调;步进电机控制,转动平稳。\n3)工转机构:采用上驱动,中心悬挂方式,磁流体无油密封传动。转动支承部位配有水冷套装置,避免加热器等热源对运动精度的不良影响。加热器周围有隔热保护罩,使基片受热均匀。\n4)样品台加热:采用数字温控仪,进口电阻合金进行加热,加热炉温度:室温~600℃,由热电偶闭环反馈控制,可控可调。控温精度±1℃,可分段设定升温斜率。加热区内,温度均匀性±5℃。\n4、磁控溅射靶组件\n安装4个磁控溅射靶组件,其中2个靶位可溅射磁性材料(如镍或铁等)。 \n5、工艺气路\n1)3路质量流量计控制的气路,可外接多种气体,其中Ar:500sccm、O2:50sccm、N2:100sccm 精度±1%,\n2)前端带电磁截止阀和过滤器,后端配有混气室;\n6、溅射电源\n1)射频电源:功率500W,频率13.56MHz,全自动匹配; 数量:1套\n2)直流溅射电源:最大输出功率:500W;输出电压:0~800V可调 数量:2套 (其中一台直流电源一拖二,切换使用)\n7、水路系统\nSUS304不锈钢水排,保障循环供水到每个水冷部件;每路冷却水采用水流感应开关检测供水状态,执行异常报警。\n8、软件及其功能(配套控制软件)\n★1、投标人提供的成品软件应具有著作版权,成品软件应具有一键式操作功能,并配置多种标准工艺参数包,可以直接调取执行;2、应具有自选参数功能,可设定好目标真空度、样品目标加热温度、溅射电源工作参数,系统自动开始抽真空,达到目标真空度后开始加热,达到目标温度后根据设定的功率开启溅射电源,溅射时间以设定的工作参数为准;\n▲3、同时对溅射电源的功率和溅射时间可以设定多个数值,实现不同输出功率、不同镀膜时间的控制,进而实现多靶轮流溅射和共溅射;\n★4、完备的工艺菜单编辑功能,大容量菜单存储空间,满足客户菜单存储需求(大于500个);\n5、具有操作日志记录功能,记录操作者操作时的关键信息。\n▲6、机身配置物联网+二维码服务系统:手机扫描二维码进入微信操作界面可显示仪器信息、关注公众号、点击查看产品使用说明书、在线故障报修、用户注册等内容,投标人须提供二维码识别证明材料。\n9、工业冷水机\n采用微电脑PLC控制,可自动控制整机运行,全功能防错操作系统,电气部分均为国际品牌,保证机器工作稳定,寿命长久。全钛管式水箱蒸发器,防止纯水在输送过程中产生固体和其它金属杂质。精密数显温度控制器,能精确控制水温±1℃,按键式操作,安装简便,静电喷塑外壳,欧化设计,美观**,外表板采用快速拆装形式。\n10、阀门气路单元\n11、备品备件 1套\n(设备的详细参数见附件)","important":true}] | 按行业标准提供服务 | |
PVD 薄膜沉积系统 | 1.0/套 | 560000.0 | 矩阵科技 | RS-B400 Series | [{"key":"1","value":"1、\t溅射沉积室\n沉积室、连接管道和法兰均采用SUS304不锈钢,材料致密放气量小;前开门结构,有观察窗和挡板,磁控靶安装在下底盘,样品台在上顶板,腔室带防污内衬,可拆卸清洗。\n2、真空系统\n真空系统\n★1)极限真空度:优于3×10-5Pa (空载经烘烤除气后)\n2)恢复真空:从大气抽至6×10-4Pa≤40min(充入干燥氮气、短时间暴露大气开始抽气)\n3)真空室漏率:关机12小时真空度≤5Pa。(新设备空载)\n★4)系统真空检漏漏率:小于5.0×10-10Pa﹒m3/s;内外表面电解抛光处理。\n3、样品台\n1)样品台:抽屉式结构可装载最大4英寸基片托(方片尺寸100mm×100mm)可以根据客户样品形状和大小定制样品托。\n2)样品台旋转:转速0~30rpm连续可调;步进电机控制,转动平稳。\n3)工转机构:采用上驱动,中心悬挂方式,磁流体无油密封传动。转动支承部位配有水冷套装置,避免加热器等热源对运动精度的不良影响。加热器周围有隔热保护罩,使基片受热均匀。\n4)样品台加热:采用数字温控仪,进口电阻合金进行加热,加热炉温度:室温~600℃,由热电偶闭环反馈控制,可控可调。控温精度±1℃,可分段设定升温斜率。加热区内,温度均匀性±5℃。\n4、磁控溅射靶组件\n安装4个磁控溅射靶组件,其中2个靶位可溅射磁性材料(如镍或铁等)。 \n5、工艺气路\n1)3路质量流量计控制的气路,可外接多种气体,其中Ar:500sccm、O2:50sccm、N2:100sccm 精度±1%,\n2)前端带电磁截止阀和过滤器,后端配有混气室;\n6、溅射电源\n1)射频电源:功率500W,频率13.56MHz,全自动匹配; 数量:1套\n2)直流溅射电源:最大输出功率:500W;输出电压:0~800V可调 数量:2套 (其中一台直流电源一拖二,切换使用)\n7、水路系统\nSUS304不锈钢水排,保障循环供水到每个水冷部件;每路冷却水采用水流感应开关检测供水状态,执行异常报警。\n8、软件及其功能(配套控制软件)\n★1、投标人提供的成品软件应具有著作版权,成品软件应具有一键式操作功能,并配置多种标准工艺参数包,可以直接调取执行;2、应具有自选参数功能,可设定好目标真空度、样品目标加热温度、溅射电源工作参数,系统自动开始抽真空,达到目标真空度后开始加热,达到目标温度后根据设定的功率开启溅射电源,溅射时间以设定的工作参数为准;\n▲3、同时对溅射电源的功率和溅射时间可以设定多个数值,实现不同输出功率、不同镀膜时间的控制,进而实现多靶轮流溅射和共溅射;\n★4、完备的工艺菜单编辑功能,大容量菜单存储空间,满足客户菜单存储需求(大于500个);\n5、具有操作日志记录功能,记录操作者操作时的关键信息。\n▲6、机身配置物联网+二维码服务系统:手机扫描二维码进入微信操作界面可显示仪器信息、关注公众号、点击查看产品使用说明书、在线故障报修、用户注册等内容,投标人须提供二维码识别证明材料。\n9、工业冷水机\n采用微电脑PLC控制,可自动控制整机运行,全功能防错操作系统,电气部分均为国际品牌,保证机器工作稳定,寿命长久。全钛管式水箱蒸发器,防止纯水在输送过程中产生固体和其它金属杂质。精密数显温度控制器,能精确控制水温±1℃,按键式操作,安装简便,静电喷塑外壳,欧化设计,美观**,外表板采用快速拆装形式。\n10、阀门气路单元\n11、备品备件 1套\n(设备的详细参数见附件)","important":true}] | 按行业标准提供服务 |
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