反应离子束刻蚀系统
****2024年10月至2024年12月政府采购意向-反应离子束刻蚀系统 详细情况
| 反应离子束刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年10月至2024年12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 反应离子束刻蚀系统 |
| 预算金额： | 490.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： | 采购内容:电子工业生产设备 采购数量:1.0000套 主要功能或目标:结合纯物理刻蚀及反应气体辅助的化学刻蚀，可实现对包括贵金属的各类金属，介质，化合物，石英等各类材料的刻蚀加工，为开展微电子、光电子、人工智能、储能器件等新技术的研究提供了重要的研究方法. 需满足的要求:1.设备适用样品范围：最大支持 8寸，并向下兼容。2.设备操作模式：全自动操作界面。3.离子源：射频离子源。4.离子源直径：≥200mm，等详见招标文件 |
| 预计采购时间： | 2024-12 |
| 备注： | 无 |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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