低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）中标结果公告(1)
项目编号： ****
公告类型： 中标结果公告
截止时间：
招标机构： ****
招标地区： **省
项目名称：低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）
项目编号：****
招标范围：低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）
招标机构：****
招标人：****
开标时间：2024-10-22 14:00
公示时间：2024-10-31 14:16 - 2024-11-04 23:59
中标结果公告时间：2024-11-05 18:55
中标人：Shintec Equipment Co., Limited
制造商：Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited， trading as Oxford Instruments Plasma Technology
制造商国家或地区：英国
项目编号：****
招标范围：低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）
招标机构：****
招标人：****
开标时间：2024-10-22 14:00
公示时间：2024-10-31 14:16 - 2024-11-04 23:59
中标结果公告时间：2024-11-05 18:55
中标人：Shintec Equipment Co., Limited
制造商：Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited， trading as Oxford Instruments Plasma Technology
制造商国家或地区：英国
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