采购内容:光刻设备平台系统；光学系统；微纳结构软件生成库（包括全息库、面型补偿功能）；主要功能或目标:最高灰度阶数达4096阶,为目前全球报道的最高阶数。 平台系统：最大行程X=200mm，Y=200mm；定位精度分辨率5nm（精密光栅尺）；重复定位精度20nmRMS；样品固定方式：真空吸附，不同尺寸的卡盘进行样品定位；最大扫描速度400mm/s；运动直线度：< 1μm over 230mm；样品尺寸最大230mm×230mm，向下兼容；支持衬底厚度 0~12mm，采用电机自动驱动Z轴高度。 光学系统：405nm diode laser，功率 3mW，寿命＞10000 小时；650nm 波长红外自动光学聚焦系统；最小分辨率 300nm，支持 600nm、900nm 的光学分辨率的自动切换，无需手动更换。 系统自带面型补偿功能（ECM），面型一致性高。 ；需满足的要求:项目建设后，建成并投入使用主要应用于掩膜板，芯片、微机电系统、传感器、折射及衍射光学系统、微光机电，超材料以及新颖材料等领域，是微纳图形制备的最有效，最直接的加工方式。适用于各类衍射光学元件、全息元件的批量化制备。与实验室现有的薄膜沉积、等离子体刻蚀设备可以构建一套完整的微纳光学元件制造体系。项目支持的学科：光学工程、仪器科学与技术。项目支持的专业：测控技术与仪器、光电信息科学与工程两个国一流专业，电子科学与技术一个省一流专业。。

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