上海先进半导体制造有限公司产品结构调整及污染防治设施升级改造项目
1、建设项目基本信息
企业基本信息
| **** | 建设单位代码类型：|
| 913********3180230 | 建设单位法人：孙劼 |
| 陈勇 | 建设单位所在行政区划：**市**区 |
| **市**区虹漕路385号 |
建设项目基本信息
| **先****公司产品结构调整及污染防治设施升级改造项目 | 项目代码：|
| 建设性质： | |
| 2018版本:082-电子器件制造 | 行业类别（国民经济代码）：C3973-C3973-集成电路制造 |
| 建设地点： | **市**区 虹漕路385号 |
| 经度:121.40349 纬度: 31.17713 | ****机关：****环境局 |
| 环评批复时间： | 2020-09-02 |
| 徐环审 2020-048 | 本工程排污许可证编号：**** |
| 2019-12-31 | 项目实际总投资(万元)：5000 |
| 5000 | 运营单位名称：**先****公司 |
| 913********3180230 | 验收监测(调查)报告编制机构名称：******公司 |
| 913********183075T | 验收监测单位：**华****公司 |
| 913********6216301 | 竣工时间：2023-10-30 |
| 2023-10-31 | 调试结束时间：2024-10-30 |
| 2024-09-30 | 验收报告公开结束时间：2024-11-04 |
| 验收报告公开载体： | ****事业单位生态环境服务平台 |
2、工程变动信息
项目性质
| 项目位于**区虹漕路 385 号 | 实际建设情况：项目位于**区虹漕路 385 号 |
| 不变 | 是否属于重大变动：|
规模
| 拟调整 5 英寸和 6 英寸芯 片产品产能，5 英寸和 6 英寸芯片设计产能分别调整至 5.7 万片/年和 73.2 万片/年，新增或改造部分废气处理系统，新增 2 座危险废物暂存 仓库（已建成）和 1 个废磷酸储罐，新增中水回用系统。 | 实际建设情况：在与原环评总原辅材料不变的情况下，不再生产5英寸芯片，6英寸芯片设计产能由73.2万片/年调整为94.4万片/年，5英寸和6英寸总产能由78.9万片/年调整为94.4万片/年，总产能增加为20%，6英寸产能由73.2万片/年调整为94.4万片/年，产能增加为29%，产能增加量未达到30% |
| 根据企业发展规划，调整产品方案。 | 是否属于重大变动：|
生产工艺
| 无 | 实际建设情况：废气污染物中硫酸雾排放量增加0.2%，其余各污染物排放均无增加 |
| 湿法刻蚀工序硅基刻蚀液成分调整，调整后新增硫酸组分，同时组分中无硝酸 | 是否属于重大变动：|
环保设施或环保措施
| 1、厂区应做到雨污分流、清污分流。该项目技改后部分纯水制备浓水作为中水供给废气洗涤塔补水。技改后****处理站处理。其中，酸性清洗废水、含氟清洗废水、含氨清洗废水、刻蚀废水、含氟刻蚀废水、CMP废水、BG废水和洗涤塔排水经含氟废水处理单元+含氨废水处理单元处理后，与有机清洗废水、酸性刻蚀废水、纯水站反冲洗水一并进入酸碱中和处理单元处理，再与锅炉排水、冷却塔排水合并经虹漕路工业废水总排口排入市政污水管网；纯水站浓水和生活污水经钦江路废水总排口排入市政污水管网。排放的氟化物浓度应达到《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374-2006)规定的三级标准排放限值要求，其他水污染物浓度应达到《污水综合排放标准》(DB31/199-2018)规定的三级标准排放限值要求，废水中砷不得检出。废水总排放口应安装流量、化学需氧量、氨氮在线监测设施，并按我局要求落实数据传输及日常管理工作。 2、应按《报告表》的要求，落实工艺废气收集及处理措施。其中，Fab2生产区硝酸雾废气经现有碱洗塔处理后，通过现有1根25米高排气筒(F12-4)排放；特殊其他工艺尾气经本地处理系统、现有碱洗塔处理后，通过现有3根25米高排气筒(F12-1~F12-3)排放；含砷废气经二级树脂吸附处理后，通过1根**25米高排气筒(F12-10)排放；废溶剂库房废气、有机废气经沸石转轮+RTO系统处理后，通过1根**25米高排气筒(F12-9)排放；现有酸性废气、碱性废气、化学品分配间废气的收集、处理、排放方式不变。Fab3生产区含硝酸雾废气经新增碱洗塔处理后，合并至现有1根25米高排气筒(F3-7)排放；有机废气、Fab3废溶剂库房废气经沸石转轮+RTO系统处理后，通过1根**35米高排气筒(F3-8)排放；含砷废气经二级树脂吸附处理后，通过1根**35米高排气筒(F3-9)排放；现有酸性废气、碱性废气、特殊气体工艺废气、化学品分配间废气、Fab3危险废物库房废气的收集、处理、排放方式不变。各排气筒出口处硫酸雾、氟化氢、氯化氢、氨、挥发性有机物等的浓度应达到《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374-2006)表3规定的排放限值要求，排放速率严格50%执行；非甲烷总烃、氮氧化物、颗粒物、二氧化硫、砷化氢、磷化氢、氯气、硝酸雾、磷酸雾、溴化氢、异丙醇、丙酮、硼及其化合物、乙酸等应达到《大气污染物综合排放标准》(DB31/933-2015)规定的排放限值要求；臭气浓度应达到《恶臭(异味)污染物排放标准》(DB31/1025-2016)规定的排放限值要求。在有机废气排放口安装在线监测设施，监控指标包括挥发性有机物、烟气温度、烟气压力、烟气流速或流量、烟气含湿量等。排气筒应按GB/T16157的要求设置采样口及采样平台。 3、应落实《报告表》提出的无组织排放控制措施，严格控制废气无组织排放。厂界处非甲烷总烃、颗粒物、氯气、氯化氢、氟化物、硫酸雾等应达到《大气污染物综合排放标准》(DB31/933-2015)规定的厂界监控点浓度限值要求；二氧化硫、氮氧化物等应达到《环境空气质量标准》(GB3095-2012)二级标准要求；臭气浓度、氨等应达到《恶臭(异味)污染物排放标准》(DB31/1025-2016)规定的工业区周界监控点浓度限值要求。厂区内非甲烷总烃应达到《挥发性有机物无组织排放控制标准》(GB374822-2019)规定的特别排放限值要求。 4、应选用低噪声设备并合理布局，采取综合性隔声、减振措施，确保项目厂界噪声达到《工业企业厂界环境噪声排放标准》(GB12348-2008)2类排放限值要求。 5、危险废物应委托有相应危险废物处置资质的单位处置，按《中华人民**国固体废物污染环境防治法》、《危险废物贮存污染控制标准》(GB18597-2001)及2013年标准修改单要求落实暂存管理要求，对危险废物挥发产生的有机气体应有收集和处理措施，并严格落实危险废物转移联单制度。一般工业固废暂存间应符合《一般工业固体废物贮存、处置场污染控制标准》(GB18599-2001)及2013年标准修改单的要求。生活垃圾委托环卫部门定期清运。 | 实际建设情况：1、该项目技改后部分纯水制备浓水作为中水供给废气洗涤塔补水。 2、该项目技改后****处理站处理。其中，酸性清洗废水、含氟清洗废水、含氨清洗废水、刻蚀废水、含氟刻蚀废水、CMP废水、BG废水和洗涤塔排水经含氟废水处理单元+含氨废水处理单元处理后，与有机清洗废水、酸性刻蚀废水、纯水站反冲洗水一并进入酸碱中和处理单元处理，再与锅炉排水、冷却塔排水合并经虹漕路工业废水总排口（1#）排入市政污水管网；纯水站浓水和生活污水经钦江路废水总排口（2#）排入市政污水管网。 3、根据《电子工业水污染物排放标准》（GB39731-2020）“4.1现有企业自2024年1月1日起，执行表1规定的水污染物排放限值及其他污染控制要求”，以及《排污单位自行监测技术指南--- 电子工业》（HJ 1253—2022）规定；水污染物从2024年1月1日起应执行GB39731-2020。调整后，虹漕路废水排口（1#）废水中污染物 pH、CODCr、SS、氨氮、总氮、总磷和氟化物执行《电子工业水污染物排放标准》（GB39731-2020）。钦江路废水排口（2#）中pH、CODCr、SS、氨氮、总氮、阴离子表面活性剂执行《电子工业水污染物排放标准》（GB39731-2020）。 4、含砷废气经两级干式过滤后排放，不进入废水系统。 5、废水总排放口（1#）设置流量、pH、化学需氧量、氨氮的自动监测，并落实数据传输及日常管理工作。 Fab2生产区硝酸雾废气经现有碱洗塔处理后，通过现有1根25米高排气筒(F12-4)排放；特殊其他工艺尾气经本地处理系统、现有碱洗塔处理后，通过现有3根25米高排气筒(F12-1~F12-3)排放；含砷废气经二级树脂吸附处理后，通过1根**25米高排气筒(F12-10)排放；废溶剂库房废气、有机废气经沸石转轮+RTO系统处理后，通过1根**25米高排气筒(F12-9)排放，废气系统设置应急活性炭箱，设计填充量为2m3，有机废气在线监测，在线监测内容包括挥发性有机物、氮氧化物、烟气温度、烟气压力、烟气流速/流量、烟气含湿量；现有酸性废气、碱性废气、化学品分配间废气的收集、处理、排放方式不变。 3、Fab3生产区含硝酸雾废气经新增碱洗塔处理后，合并至现有1根25米高排气筒(F3-7)排放；有机废气、Fab3废溶剂库房废气经沸石转轮吸附后，净化废气通过1根**39米高排气筒(F3-8)排放，沸石转轮吹脱废气送厂房2(Fab2)RTO焚烧处理，废气系统设置应急活性炭箱，设计填充量为3m3，有机废气在线监测内容包括挥发性有机物、烟气温度、烟气压力、烟气流速/流量、烟气含湿量；含砷废气经二级树脂吸附处理后，通过1根**35米高排气筒(F3-9)排放；现有酸性废气、碱性废气、特殊气体工艺废气、化学品分配间废气、Fab3危险废物库房废气的收集、处理、排放方式不变。 4、各排气筒出口处硫酸雾、氟化氢、氯化氢、氨、挥发性有机物等的浓度满足《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374-2006)表3规定的排放限值要求，排放速率严格50%执行；非甲烷总烃、氮氧化物、颗粒物、二氧化硫、砷化氢、磷化氢、氯气、硝酸雾、磷酸雾、溴化氢、异丙醇、丙酮、硼及其化合物、乙酸等应达到《大气污染物综合排放标准》(DB31/933-2015)规定的排放限值要求；臭气浓度应达到《恶臭(异味)污染物排放标准》(DB31/1025-2016)规定的排放限值要求。 6、各排气筒均按GB/T16157的要求设置采样口及采样平台。 1、无组织排放控制措施主要包括：①企业的生产过程均在洁净室内操作，物料输送大多数为多层套管，工艺过程均在密闭机台内自动操作。②该项目特种气体采用钢质高压容器（气瓶）储存，酸、碱等化学品全部采用电子工业化学品专用容器密封包装后由专用车辆运输入厂，大部分在化学品库内分区存放，少量放置于主生产厂房化学品分配间内供生产配液使用，特气间的气柜、特气存储过程的阀门及法兰逸散气体、化学品供应间均配套全密闭负压的集中废气收集系统；③废水处理站中废水中可能产生异味的含废水处理单元调节池均设置盖板并设置废气收集装置，将收集的废气送至淋洗塔中处置；④化学品库储存进厂的桶装化学品，全部保持密闭未拆封状态，只有转运到化学品集中供应间时才开启并配送；⑤危废暂存间采用桶装或袋装密闭储存，并及时委外清运。⑥新增Fab2危险废物库房和Fab3危险废物库房均设置废气收集装置，废气分别送至Fab2和Fab3有机废气处理装置。 2、厂界处非甲烷总烃、颗粒物、氯气、氯化氢、氟化物、硫酸雾等应达到《大气污染物综合排放标准》(DB31/933-2015)规定的厂界监控点浓度限值要求；二氧化硫、氮氧化物等应达到《环境空气质量标准》(GB3095-2012)二级标准要求；臭气浓度、氨等应达到《恶臭(异味)污染物排放标准》(DB31/1025-2016)规定的工业区周界监控点浓度限值要求。厂区内非甲烷总烃应达到《挥发性有机物无组织排放控制标准》(GB374822-2019)规定的特别排放限值要求。 新增隔声措施，厂区南侧厂界设置28m隔声墙和RTO区域设置21m隔声墙，隔声墙高度均为3m 5、选用低噪声设备并合理布局，采取综合性隔声、减振措施，确保项目北侧、西侧和南侧厂界达到《工业企业厂界环境噪声排放标准》(GB12348-2008)2类声环境功能区限值，东厂界满足4a类标准。 1、危险废物委托危险废物处置资质的单位处置，按《中华人民**国固体废物污染环境防治法》、《危险废物贮存污染控制标准》(GB18597-2023)要求落实暂存管理要求，对危险废物挥发产生的有机气体应有收集和处理措施，并严格落实危险废物转移联单制度；2、一般工业固废暂存间应符合《一般工业固体废物贮存、处置场污染控制标准》(GB18599-2020)的要求； 6、生活垃圾委托环卫部门定期清运。 |
| 1、法刻蚀工序硅基刻蚀液成分调整，使用量不变。 2、为便于管理且降低企业运行成本合并处理两个车间沸石转轮浓缩废气；为保证有机废气在非正常工况下能够满足排放要求新增应急活性炭箱。 3、通过增加废水站废水盖板和提升盖板的密闭性，提升废气收集效率，减少废气量。 4、为降低Fab2有机废气处理系统新增风机对南侧厂界的影响，厂区南侧厂界区域和RTO区域设置隔声墙。 5、根据实际生产变化补充并完善固体废物的种类和产生量 | 是否属于重大变动：|
其他
| 应按照《报告表》的要求，落实各项“以新带老”措施。 | 实际建设情况：1、F12-5和F12-6排气筒不排放砷化氢、磷化氢 2、Fab2生产区含砷废气经二级树脂吸附处理后，通过1根**25米高排气筒(F12-10)排放；Fab3生产区含砷废气经二级树脂吸附处理后，通过1根35米高排气筒(F3-9)排放，两路含砷废气均不进入废水系统； 3、废水总排放口（1#）设置流量、pH、化学需氧量、氨氮的自动监测； 4、现有Fab2生产区有机废气经沸石转轮+RTO系统处理后，通过1根**25米高排气筒(F12-9)排放，Fab3生产区有机废气经沸石转轮吸附后，净化废气通过1根**39米高排气筒(F3-8)排放，沸石转轮吹脱废气送厂房2(Fab2)RTO焚烧处理后通过(F12-9)排放； 5、将部分纯水站浓水回用，用于项目废气水喷淋塔，减少新水使用量。 |
| 按要求落实 | 是否属于重大变动：|
3、污染物排放量
| 198.56 | 0 | 194.33 | 4.23 | 0 | 194.33 | -4.23 | |
| 519.45 | 0 | 410.21 | 109.24 | 0 | 410.21 | -109.24 | |
| 34.74 | 0 | 34.74 | 0 | 0 | 34.74 | 0 | |
| 16.91 | 0 | 8.42 | 8.49 | 0 | 8.42 | -8.49 | |
| 54.4 | 0 | 54.4 | 0 | 0 | 54.4 | 0 | |
| 637500 | 0 | 2 | 0 | 0 | 637500 | 0 | / |
| 0.07 | 0 | 0.07 | 0 | 0 | 0.07 | 0 | / |
| 4.41 | 0 | 4.41 | 0 | 0 | 4.41 | 0 | / |
| 9.28 | 0 | 9.28 | 0 | 0 | 9.28 | 0 | / |
| 15.21 | 0 | 15.21 | 0 | 0 | 15.21 | 0 | / |
4、环境保护设施落实情况
表1 水污染治理设施
| 1 | 废水处理设施 | 电子工业水污染物排放标准》(GB39731-2020)表1间接排放 | 处理工艺为“絮凝沉淀+折点氧化法+酸碱中和法” | 2天 |
表2 大气污染治理设施
| 1 | Fab2有机废气系统 | **市《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374-2006) | Fab2沸石转轮+RTO系统设计风量40000N m3/h，经25m排气筒(F12-9)排放； 应急活性炭箱(设计填充量为2t)。 | 2天，每天采样3次 | |
| 2 | Fab2酸性废气处理系统 | **市《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374-2006)、**市《大气污染物综合排放标准》(DB31/933-2015) | 3套70000m3/h（2用1备）碱喷淋吸收塔，配套3个高度为25m排气筒； 1套30000m3/h和1套40000m3/h（备用）碱喷淋吸收塔，配套1个高度为25m排气筒； 2套40000m3/h（1用1备）碱喷淋吸收塔和1套20000m3/h，配套2个高度为25m排气筒； 2套22000m3/h碱喷淋吸收塔，配套2个高度为25m排气筒 | 2天，每天采样3次 | |
| 3 | FAB2含砷废气处理系统 | **市《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374-2006) | 现有树脂吸附过滤装置后新增2套树脂吸附过滤装置后直接排放，排放量5000m3/h，配套新增1个25m排气筒排放 | 2天，每天采样3次 | |
| 4 | FAB3酸性废气收集处理系统 | **市《大气污染物综合排放标准》(DB31/933-2015)\**市《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374-2006) | 5套48000m3/h碱喷淋吸收塔，配套6个35m排气筒排放 | 2天，每天采样3次 | |
| 5 | FAB3碱性废气收集处理系统 | **市《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374-2006) | 酸喷淋吸收塔2套10000m3/h，配套1个33m排气筒排放 | 2天，每天采样3次 | |
| 6 | FAB3有机废气处理系统 | **市《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374-2006)、**市《大气污染物综合排放标准》(DB31/933-2015) | **1套45000m3/h的沸石转轮，废气经处理后通过39m排气筒排放，并配套有机废气在线监测。沸石吹脱废气进Fab2厂房RTO系统焚烧 | 2天，每天采样3次 | |
| 7 | FAB3硝酸雾废气处理系统 | **市《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374-2006) | 新增1台碱液淋洗塔，设计风量5000m3/h | 2天，每天采样3次 | |
| 8 | FAB3含砷废气 | **市《半导体行业污染物排放标准》(DB31/374-2006)、**市《大气污染物综合排放标准》(DB31/933-2015) | 现有1过滤系统后新增1套树脂吸附过滤装置后直接排放，排放量5000m3/h，配套新增1个35m排气筒排放 | 2天，每天采样3次 |
表3 噪声治理设施
| 1 | 隔声墙 | 《工业企业厂界环境噪声排放标准》(GB12348-2008) | 隔声措施，厂区南侧厂界设置28m隔声墙和RTO区域设置21m隔声墙，隔声墙高度均为3m | 监测2天，每天昼、夜时段 各测1次 |
表4 地下水污染治理设施
表5 固废治理设施
表6 生态保护设施
表7 风险设施
5、环境保护对策措施落实情况
依托工程
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
环保搬迁
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
区域削减
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
生态恢复、补偿或管理
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
功能置换
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
其他
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
6、工程建设对项目周边环境的影响
| / |
| / |
| / |
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7、验收结论
| 1 | 未按环境影响报告书（表）及其审批部门审批决定要求建设或落实环境保护设施，或者环境保护设施未能与主体工程同时投产使用 |
| 2 | 污染物排放不符合国家和地方相关标准、环境影响报告书（表）及其审批部门审批决定或者主要污染物总量指标控制要求 |
| 3 | 环境影响报告书（表）经批准后，该建设项目的性质、规模、地点、采用的生产工艺或者防治污染、防止生态破坏的措施发生重大变动，建设单位未重新报批环境影响报告书（表）或环境影响报告书（表）未经批准 |
| 4 | 建设过程中造成重大环境污染未治理完成，或者造成重大生态破坏未恢复 |
| 5 | 纳入排污许可管理的建设项目，无证排污或不按证排污 |
| 6 | 分期建设、分期投入生产或者使用的建设项目，其环境保护设施防治环境污染和生态破坏的能力不能满足主体工程需要 |
| 7 | 建设单位因该建设项目违反国家和地方环境保护法律法规受到处罚，被责令改正，尚未改正完成 |
| 8 | 验收报告的基础资料数据明显不实，内容存在重大缺项、遗漏，或者验收结论不明确、不合理 |
| 9 | 其他环境保护法律法规规章等规定不得通过环境保护验收 |
| 不存在上述情况 | |
| 验收结论 | 合格 |
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