高真空电阻蒸发镀膜设备（JJ2024002470）延期公告

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高真空电阻蒸发镀膜设备（JJ2024002470）延期公告

更新时间	2024年11月18日
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关键信息	电阻蒸发镀膜设备
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延期信息

延期理由：

由于该项目报价情况不满足要求，本项目延期至2024-11-19 18:00

项目名称项目编号公告开始日期公告截止日期采购单位付款方式联系人联系电话签约时间要求到货时间要求预算总价发票要求含税要求送货要求安装要求收货地址供应商资质要求公告说明

高真空电阻蒸发镀膜设备	****
2024-11-15 17:53:32	2024-11-19 18:00:00
****	供方提供货物至需方指定地点经安装验收合格，双方签字确认后，七个工作日内支付全部货款。

	按照合同约定执行
￥




市区同砚路38号****校**学院328
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购清单1

采购商品采购数量计量单位所属分类

高真空电阻蒸发镀膜设备

台

品牌型号预算单价技术参数及配置要求参考链接售后服务

**微纳真空

VZZ-300

￥

一、详细技术参数： 1.真空腔室：Φ300×H420mm，上钟罩（高硼硅玻璃）+下底座（304 不锈钢）结构； 2.真空系统：600L/s 抽速复合分子泵+直联旋片泵组成的大抽速、准无油真空系统；全量程数显复合真空计（1×105～1×10-5Pa）； 3.真空极限：≤3.0×10-5Pa（2.3×10-7Torr）； 4.抽速：分子泵完全启动，抽至 3.0×10-4Pa≤10min； 5.结构尺寸：（1）抽屉式结构，最大可镀基片尺寸：112×112mm，该范围内可装卡各种规格基片：15～25mm 方形 ITO/FTO 玻璃约 16～25 片；（2）基片掩膜：随设备提供一块掩膜板（客户需需提供掩膜图案）；（3）衬底水冷：采用基片台背板通冷却循环水强制水冷； 6.蒸发源及电源：两组蒸发源；采用水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料和有机材料的蒸发源结构设计；蒸发源配隔离屏蔽罩，防止两源交叉污染且屏蔽有害热量；6.膜厚监控：采用高精度石英晶振膜厚监控仪在线监测蒸镀速率、自控膜厚； 7.蒸发电源：台蒸发电源，通过切换按钮，能实现一次真空环境两源依次蒸发；额定功率：2.3KW，恒流工作模式，最大电流 230A； 8.速率和膜厚监控：采用膜厚监控仪和开发的膜厚控制程序，蒸镀过程中实时监测蒸发速率，监控膜厚；厚度监测范围 1～9999，分辨率 1；速率监测范围 0.1～9999.9/s，分辨率 0.1； 9.水冷系统：水冷部件有分子泵、蒸发电极、膜厚仪探头等；配高精度冷却循环水机 1 台； 10.控制方式：PLC 手自动控制，触摸屏操作； 11.报警及保护：对分子泵、膜厚仪探头、蒸发电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的程序互锁、完备的防误操作设计及保护。 12. 特别定制：掩膜板一块。二、产品配置 1. 高真空电阻蒸发镀膜设备 2. 冷却循环水机； 3.速率和膜厚检测系统； 4.衬底水冷组件； 5.衬底加热组件； 6.说明书一份； 7.包装箱一套；

按国家法定或行业要求提供售后服务。

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