分子束外延生长系统（MBE）、分光镜对位系统研发平台、晶圆键合机、化学机械抛光机（CMP）、兆声清洗机采购项目
****2024年12月至2025年01月政府采购意向-分子束外延生长系统（MBE）、分光镜对位系统研发平台、晶圆键合机、化学机械抛光机（CMP）、兆声清洗机采购项目 详细情况
| 分子束外延生长系统（MBE）、分光镜对位系统研发平台、晶圆键合机、化学机械抛光机（CMP）、兆声清洗机采购项目 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年12月至2025年01月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 分子束外延生长系统（MBE）、分光镜对位系统研发平台、晶圆键合机、化学机械抛光机（CMP）、兆声清洗机采购项目 |
| 预算金额： | 130.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： | 采购内容:电子工业生产设备 采购数量:1.0000台 主要功能或目标:开展厚度从单个原子层到几个原子层的材料制备，实现大面积InP、GaAs材料的均匀可控生长及其器件膜堆的制备等。其余详见招标文件。 需满足的要求:生长室真空度优于8×10-11mbar，腔体尺寸，外延片尺寸：2/3英寸；外延实时监控RHEED：最高能量不低于15 keV；衬底最高生长温度：不低于800℃；电子束蒸发源适配Ga，In等三族元素等，其余详见招标文件。 |
| 预计采购时间： | 2025-01 |
| 备注： | 无 |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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