等离子体超高真空高温原子层沉积（ALD）
****2025年1至12月政府采购意向-等离子体超高真空高温原子层沉积（ALD） 详细情况
| 等离子体超高真空高温原子层沉积（ALD） | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年1至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 等离子体超高真空高温原子层沉积（ALD） |
| 预算金额： | 500.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A****9900其他电工、电子生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 采购等离子体超高真空高温原子层沉积设备1台，用于实现超薄二维原子晶体材料大尺寸、大晶粒、原子层可控制备。生长样品尺寸可兼容2英寸，生长加热温度可达500℃，加热台最高加热温度可达1000℃；包含6路前驱体源管路，其中3路为常温源，3路为加热源，前驱体源加热温度不低于200℃；包含热ALD和PEALD两种模式。 |
| 预计采购时间： | 2025-02 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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