离子刻蚀显影系统
****2025年1至12月政府采购意向-离子刻蚀显影系统 详细情况
离子刻蚀显影系统 | |
项目所在采购意向: | ****2025年1至12月政府采购意向 |
采购单位: | **** |
采购项目名称: | 离子刻蚀显影系统 |
预算金额: | 250.000000万元(人民币) |
采购品目: | A****9900其他电工、电子生产设备 |
采购需求概况 : | 采购离子刻蚀显影系统1套,用于真空互联的前提下探索新的纳米加工技术开发,实现真空互联干膜光刻胶显影和无掩膜图形化,避免水氧接触,完成真空器件图形化。以缓冲腔与超高真空管道互联,缓冲腔真空度≤1×10-7Pa;反应室真空度≤5×10-5Pa;至少5路气体,H2、O2、Ar、N2等气体,同时预留5路供切换其他气体,均以MFC控制流量;可实现2英寸样品刻蚀深度100 nm,不均匀性≤ ±5% |
预计采购时间: | 2025-02 |
备注: |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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