原子层沉积设备
****2024年10月政府采购意向-原子层沉积设备 详细情况
原子层沉积设备 | |
项目所在采购意向: | ****2024年10月政府采购意向 |
采购单位: | **** |
采购项目名称: | 原子层沉积设备 |
预算金额: | 430.000000万元(人民币) |
采购品目: | A****0300 电子工业生产设备 |
采购需求概况 : | 原子层沉积设备主要用于沉积出薄膜材料,例如Ⅱ-Ⅵ化合物、Ⅱ-Ⅵ基TFEL磷光材料、Ⅲ-V化合物、氮(碳)化物、半导体/介电材料、氧化物介电层、其他**材料、单质材料。 原子层沉积设备主要由腔体、气体管路、加热前驱源系统、真空系统、预备腔等几部分组成。原子层沉积系统(ALD)是半导体器件、半导体材料的制备及集成电路工艺的基础性必备设备,主要用于生长金属氧化物,目前已被广泛的应用于微电子、物理、化学、材料、信息、生物和医学等多个学科领域。本项目根据科研需求计划采购2台原子层沉积设备。 |
预计采购时间: | 2024-10 |
备注: |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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