磁控溅射真空镀膜仪
****2024年11至12月政府采购意向-磁控溅射真空镀膜仪 详细情况
磁控溅射真空镀膜仪 | |
项目所在采购意向: | ****2024年11至12月政府采购意向 |
采购单位: | **** |
采购项目名称: | 磁控溅射真空镀膜仪 |
预算金额: | 34.000000万元(人民币) |
采购品目: | A****2402真空应用设备 |
采购需求概况 : | 1、采购名称:磁控溅射真空镀膜仪。2、采购标的需实现的主要功能或者目标:设备通过将不同靶材在高真空下利用离子溅射的原理在非导电样品表面镀一层纳米级别厚度的薄膜。主要技术参数: 1.溅镀优点:基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空安全联锁装置,最大180A,配有过流保护2.溅射控制:微处理器控制,安全互锁,可调,最大电流40mA,程序化数字控制3.样品台:旋转倾斜样品台,可放置7个标准SEM样品座,高度可调节4.溅射头:2英寸磁控管阴极,靶材更换快速,环绕暗区护罩5.靶材:可以沉积广泛的氧化和非氧化材料,如金(Au)、铂/(Pt/Pd)合金、银(Ag)、铬(Cr)、钨(W)、等6.膜厚监控仪:石英晶体厚度监测仪,精度为 1 nm,分辨率为 1 7.镀膜均匀性好,电流回路控制,冷态直流溅射避免对样品的热损伤和热变形,控制涂层速率以获得更细的晶粒结构8.真空系统:内置涡轮泵90升/秒,两级旋片背泵(隔膜式和涡旋泵)9.控制方法:氩气电子泄漏阀,自动气体换气和泄气功能10.软件:自动化模式下的可重复和可编程的溅射过程,手动或自动定时和厚度沉积,能够记录和绘制涂层参数图,储存可重复沉积的涂层配方 11.控制模块:彩色触摸屏面板和全自动控制,使用用户**的软件来控制和调整沉积过程数据。真空和镀膜顺序信息可以在触摸屏上以数字数据或曲线的形式显示。可存储300种靶材信息将保存在历史记录页中3、采购数量:1套;4、采购标的需满足的质量、安全等;5、服务要求:1)为保证售后服务质量,需提供针对此项目的厂家授权书和售后服务承诺书原件,保证服务2小时内响应,48小时内到达现场; 2)产品质保期为一年,在质保期内属于产品质量问题所发生的一切费用由供方负担; 3)提供不低于3个工作日和24小时的培训及其配合测试; 4)所有货物要求供应商或生产商负责免费送货上门、免费安装调试、原厂包装,定期维护,终身提供维修服务;竞标商如不能提供上述服务,则不考虑申购; 5)所购买的设备不零散采购,均为统一供应商供应;6)所购买仪器设备若需要连接操作系统、连接电脑的,均应配备正规厂家的高性能电脑; 6、供货时限:3个月内;7、其他:技术交流联系人及电话:孙老师:133****3653. |
预计采购时间: | 2024-12 |
备注: |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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